Mit Hilfe eines Strahlungsschirmes werden aktive, „nitrierfähige Teilchen“ erzeugt. Der Strahlungsschirm wird gleichzeitig als Heizung verwendet.

Um jedoch in großen, industriellen Anlagen nitrieren zu können, ist eine zusätzliche Spannung zwischen der Retorte und den Bauteilen notwendig.

Der Energieeintrag in eine Plasmanitrieranlage ist das Produkt aus Spannung, der resultierenden Stromdichte und der beglimmten Fläche. Je höher die Spannung ist, desto höher ist die resultierende Stromdichte und damit der Energieeintrag.

Die Arbeitsspannungen des Activ Screen Verfahrens liegen im Bereich der Spannungen, die auch beim gepulsten Plasma verwendet werden. Dies wird im gepulsten Plasma speziell mit einem Zündimpuls erreicht, welcher minimale Arbeitsspannungen ermöglicht.

Insofern die Arbeitsspannungen vergleichbar sind, ergeben sich bei gleichem Druck und gleicher Gaszusammensetzung gleiche Temperaturdifferenzen in der Charge.

Anbieter der Activ Screen Technologie argumentieren weiterhin oft, dass heutige Plasmanitrierverfahren mit Hohlkathodenproblemen, mit Arcing und Kanteneffekten zu kämpfen haben.

Speziell das Problem des Arcings ist seit Jahren von allen deutschen Anbietern von Plasmanitrieranlagen über eine Stromerkennung und Schnellabschaltung gelöst. Auch die Hohlkathodenproblematik ist beim gepulsten Plasma im Vergleich zum ungepulsten Plasma wesentlich entschärft worden. Bei unzweckmäßigen Behandlungsparametern und falscher Temperaturmessung kann es jedoch zu lokalen Überhitzungen kommen. Gleichzeitig wird der Hohlkathodeneffekt aber bewusst in vielen Nitrierprozessen genutzt.

Kanteneffekte sind allen Nitrierverfahren gemein, da eine Kante immer mehr Stickstoff erhält als eine ebene Fläche.